对应光学器件、MEMS制造的干法刻蚀装置NLD-5700是搭载了磁性中性线（NLD- neutral loop discharge）等离子源的量产用干法刻蚀装置。（此爱发科独创的NLD技术设备可实现产生低压、低电子温度、高密度的等离子）

产品特性

在洁净房内作业可扩张为双腔。（可选配腔室：NLD、有磁场ICP、CCP或者去胶室）

NLD为时间空间可控的等离子，因此设备干法清洁容易

腔体维护简便

从掩模刻蚀到石英、玻璃刻蚀，可提供各类工艺解决方案

专门的半导体技术研究所会提供万全的工艺支持体制

产品应用

光学器件（光衍射格子、変调器、光开关等等）

凹凸型微透镜

流体路径作成或光子学结晶