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新闻动态 NEWS
MA300 Gen3 掩模对准机
添加时间:2024-04-15
SUSS的第三代MA300是一个用于300毫米和200毫米晶圆的高度自动化的掩模对准光刻平台,专为三维封装、晶圆凸点和晶圆级封装应用而设 计,同时也可以用于图形尺寸5微米到100微米之间的其它技术。MA300开启了SUSS掩模对准光刻机的新纪元,可以满足现代高端工厂量产环境的需求。
亮点:
全场光强90mW/cm²(宽带曝光);
在300毫米上低至2.5%的光线均匀度;
100%边缘曝光灵活性(轻松的边缘光刻胶去除);
分辨率优于4微米;
对准精度1微米,直接对准可选0.5微米(3σ);
可选装专用于三维互连的对准模块;
一流的吞吐量。
此外,MA300的标准顶部对准精度优于0.5微米(直接对准),新的三维专用对准平台可以实现背面和红外对准,可满足300毫米三维封装光刻应用 的需求,例如用于穿透硅通道(TSV)、划片槽、背面再布线层(RDL)和凸点应用的刻蚀掩模光刻。背面对准功能使SUSS的300毫米掩模对准光刻机可 以处理具有双面结构的晶圆,红外对准功能可以处理对可见光不透明而红外可透过的基片,例如粘合剂材料,特别是用于薄形基片处理和包封的应用。
与步进投影光刻不同,掩模对准光刻机在曝光非常厚的材料时,效率很高。掩模对准光刻机因其投影系统没有焦深的限制,所以可以提供大的工艺窗口。
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