最新桌上型系统µMLA拥有最先进的无掩模直写技术，在进行微结构的研究下，这是一台完美入门级工具；产业领域如微流体、微光学、传感器、微机电和材料科学研究。µMLA具有灵活性以及可制定性，并且能操作毫米等级的示范，有别以往的桌上型无光罩直写解决方案。

        选择您所需要的曝光模式，甚至可为您的µMLA搭配：光栅扫描曝光模块，能快速曝光设计复杂的图形；向量模块，能曝光连续的曲线，创建平滑的轮廓，例如波导的应用。此外，µMLA也提供2种光学配置的选择，在不同的区域产出以及拥有高分辨率。在您的光学配置中，软件也能在三种配置之间转换，并根据您的要求优化分辨率和速度。