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新闻动态 NEWS
德国海德堡无掩膜激光直写光刻机MLA150
添加时间:2024-04-22
MLA150专为便于操作而设计,涵盖过去30年中开发的激光直写设备的所有技术知识。它提供了单层和多层应用所需的所有功能,由于MLA150曝光是非接触式的,因此它可以克服无掩模曝光技术的局限性。
与其他图形产生器不同的地方不仅在于MLA150易于使用,还有极快的曝光速度。使用小至1微米的结构曝光100x100mm²的区域仅需要不到10分钟。透过使用三个不同分辨率的集成摄像头,可在2分钟内完成多层应用中的套刻对位,套刻对准精度优于500nm。